|
|
| Автор: Владимир Астахов |
| Издательство: МИСиС |
| Год: 2016 |
| Cтраниц: 1 |
| Формат: PDF |
| Размер: 0 |
|
| Качество: excellent |
| Язык: |
|
 |
|
Описание:
|
Содержит описание трех практических занятий, в которых изучаются такие процессы создания приборных структур наноэлектроники, как термическое окисление, диффузия и ионная имплантация. Ставит перед собой задачи объяснить физическую сущность используемых в микро- и наноэлектронике технологических процессов, научить комплексному научному подходу к выбору методов и процессов формирования электронной компонентной базы, а также освоить методики расчета параметров технологических процессов. Результатом обучения должно быть приобретение компетенций по основным базовым процессам технологии для применения их в научных исследованиях, разработке и производстве изделий микро- и наноэлектроники.
|
Пресс - релиз
string(4) "true"
int(290)
|
